Tonwiedergabe von Semiconduct Wafer Cleaning, Ätzsystem und OHT, AGV im Fab-Reinraum. Allgemeines Design. 3D-Rendering-Bild.

RFID:2X6NAP3

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Haiyin Wang / Alamy Stock Foto

Bild-ID:

2X6NAP3

Dateigröße:

100,1 MB (3 MB Komprimierter Download)

Freigaben (Releases):

Model - nein | Eigentum - neinBenötige ich eine Freigabe?

Format:

7000 x 5000 px | 59,3 x 42,3 cm | 23,3 x 16,7 inches | 300dpi

Aufnahmedatum:

10. Mai 2024

RF2X6NB3J–Tonveredelung von Halbleiter-Wafer-Reinigung, Ätzanlage im Fab-Reinraum. 3D-Rendering-Bild.

RF2X6NBBX–Tonveredelung von Halbleiter-Wafer-Reinigung, Ätzanlage im Fab-Reinraum. Isometrische Ansicht. 3D-Rendering-Bild.

RF2X6NBHW–Tonwiedergabe von Semiconduct Wafer Cleaning, Etching and OHT System im Fab Reinraum. 3D-Rendering-Bild.

RF2X6NA70–Tonwiedergabe von Semiconduct Wafer Cleaning, Ätzsystem und OHT, AGV im Fab-Reinraum. Allgemeines Design. 3D-Rendering-Bild.